电镀原料批发

联系我们

深圳市恒迪源润达实业有限公司

手  机:18138239341(江小姐)

电 话 :0755-28486057

传 真 :0755-28486735

地 址 :广东 深圳市 龙岗区龙 东三和村保安大楼(新井路26号)


高填平酸铜工艺

您的当前位置: 首 页 >> 新闻资讯 >> 行业新闻

高填平酸铜工艺

发布日期:2017-06-08 00:00 来源:http://www.hdrrunda.com 点击:

高填平酸铜工艺

一、 特性 

 

1、引进国外先进工艺及原材料,出光速度快,走位好,具有极佳的低电填平能力。 


2、镀液稳定、容易控制,操作简便,光剂消耗量小。 

 

3、工作温度范围广,20-40℃都可获得较好的效果。 

 

4、镀层光亮一致,不易产生针孔。 

  

二、 电镀工艺           高填平酸铜工艺

 

 成  分 范 围 标 准 

 

硫酸铜CuSO4∙5H2O(g/L) 180-220 200 

 

硫 酸H2SO4(g/L) 50-80 70 

 

氯离子CL-(mg/L) 60-150 100 

 

HDR-68A(ml/L) 0.4-0.6 0.6 

 

HDR-68B(ml/L) 0.3-0.5 0.5 

 

HDR-68MU(ml/L) 6-10 8 

 

温 度(℃) 20-40 28 

 

阳极电流密度(A/dm2) 1-6 

 

阴极电流密度(A/dm2) 1.5-8 

 

搅 拌 空气搅拌 

 

电 压(V) 3-9 

 

三、 镀液配制方法 

 

1、在备用槽内注入三分之二的纯水(检验纯水中是否含有氯离子)。 

 

2、加入开缸量所需的硫酸铜,搅拌溶解。 

 

3、加入所需要的分析纯硫酸。 

 

4、加入高纯活性碳粉(2-5g/L),搅拌四小时,静置沉淀后过滤。 

 

5、电解6小时,加入开缸量所需的氯离子和添加剂。 

 

6、 试镀合格后即可正常生产。 

 

四、消耗量:以每千安培·小时消耗量计算 高填平酸铜工艺

 

HDR-68A:50~70ml/千安培·小时 

 

HDR-68B:30~50ml/千安培·小时 

 

HDR-68MU:60~80ml/千安培·小时 

 

ss="font1">T除杂水:适用于镀镍光剂,特别适用于锌基合金件,可除去镀镍液中的重金属杂质,

     特别是锌,直接加入效果显著。

     使用量:0.3~0.6毫升/升      

 3、HDR-28P高速填平剂:当镀件要求整平特别好时,配合主光剂同时使用,可获得特别光亮丰满的镀层。一般按主光剂消耗量的10%。

五、注意事项              

新开缸或使用本公司光亮剂转缸前,欢迎与本公司联络(0755-28489710),并取镀液到本公司实验室分析。


相关标签:硫酸亚锡价格

在线客服
分享
欢迎给我们留言
请在此输入留言内容,我们会尽快与您联系。
姓名
联系人
电话
座机/手机号码